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フォトマスク

• EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 | ニュース | DNP 大日本印刷
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• 2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速 | ニュース | DNP 大日本印刷
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• ウシオ電機、アプライドマテリアルズと共同でフォトマスク不要の半導体装置を開発へ | スラド ハードウェア
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• 3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 | ニュース | DNP 大日本印刷
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