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フォトマスク
EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 | ニュース | DNP 大日本印刷
DNP
(287)
EUV
(7)
ナノ
(58)
パターン
(150)
フォトマスク
(4)
メートル
(5)
リソグラフィ
(4)
世代
(718)
以降
(73)
大日本印刷
(355)
微細な
(3)
達成
(305)
2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速 | ニュース | DNP 大日本印刷
DNP
(287)
EUV
(7)
ナノ
(58)
フォトマスク
(4)
プロセス
(407)
メートル
(5)
リソグラフィ
(4)
世代
(718)
加速
(819)
大日本印刷
(355)
製造
(774)
開発
(7168)
ウシオ電機、アプライドマテリアルズと共同でフォトマスク不要の半導体装置を開発へ | スラド ハードウェア
アプライドマテリアルズ
(1)
ウシオ
(3)
ハードウェア
(3108)
フォトマスク
(4)
不要
(358)
共同
(2287)
半導体
(476)
装置
(290)
開発
(7168)
電機
(60)
3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 | ニュース | DNP 大日本印刷
DNP
(287)
EUV
(7)
ナノ
(58)
フォトマスク
(4)
プロセス
(407)
メートル
(5)
リソグラフィ
(4)
大日本印刷
(355)
相当
(83)
製造
(774)
開発
(7168)