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EUV

• EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 | ニュース | DNP 大日本印刷
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• 2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速 | ニュース | DNP 大日本印刷
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• High-NA EUV世代のデバイス開発と量産におけるニーズに応えた高精度電子線計測システム「GT2000」を発売 : 日立ハイテク
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• 次世代半導体の微細回路形成を実現するEUV露光機用ペリクルの要素技術を確立 | ニュースリリース | リンテック株式会社
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• 3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 | ニュース | DNP 大日本印刷
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• Samsung、7nmプロセスに向けたEUVリソグラフィ技術を開発 | スラド
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