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• 10 nmの限界を突破!線幅7.6 nmの半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功 | 東工大ニュース | 東京工業大学
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• 従来困難であった5nm以下の金属酸化物微粒子を精密… | プレスリリース・研究成果 | 東北大学 -TOHOKU UNIVERSITY-
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• RapidusとIBM、2nm世代半導体のチップレットパッケージ技術に関するパートナーシップを締結 – Rapidus株式会社
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• TSMC、2030年までに1nm製品の製造へ | スラド ハードウェア
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• TSMCが3nmも視野に入れた日本で3番目の工場建設検討と米報道 | スラド
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• キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売 | スラド ハードウェア
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• Huawei、14nm プロセスまで対応可能な EDA ツール開発に成功 | スラド ハードウェア
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• TSMC、アリゾナ新工場を4nmプロセスに切り替え | スラド
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• アニサキスはブラックライト(365-370nm)を当てると見つけやすい | スラド サイエンス
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• 中国半導体大手「SMIC」が7nmチップ生産が可能に。米規制すり抜け | スラド ハードウェア
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• 高出力深紫外LED(265nm帯)により エアロゾル中の新型コロナウイルスの高速不活性化に成功|東京大学医科学研究所
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• TSMCとソニー、熊本半導体工場設立を正式発表 22/28nmプロセス採用 – Engadget 日本版
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• IntelがTSMCの3nmの生産枠の大半を確保の報道。AppleやAMDなどの他社製品に影響か | スラド ハードウェア
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• 米IBM、世界初の2nm製造プロセスを用いた半導体製造技術を発表 | スラド ハードウェア
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• TSMCの3nmプロセス施設完成を祝う式典が実施される。2022年より本格稼働へ | スラド ハードウェア
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• 222nm紫外線の人体皮膚への安全性と殺菌効果の両立を立証 ― これまでにない、新たな感染症予防・治療法開発へ ― | Research at Kobe
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• Effectiveness of 222-nm ultraviolet light on disinfecting SARS-CoV-2 surface contamination – American Journal of Infection Control
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• 222nm紫外線の人体皮膚への安全性と、殺菌効果の両立を立証。有人環境下での紫外線殺菌・ウイルス不活化の実現でパンデミック防止へ | ウシオ電機
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• 波長222nmの紫外線は新型コロナウイルス対策に有効。人体への安全性も立証済み | スラド サイエンス
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• インテル、7nmの製造プロセスへの移行が6か月遅延。TSMCへの製造委託も視野に | スラド ハードウェア
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• NVIDIA、TSMCの5nmプロセス製造枠確保でAMDに先行 | スラド
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• 遅れていたIntelの10nmプロセス採用チップ、Intelが出荷開始のメドが立っていることを明らかに | スラド
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• GlobalFoundries、7nmプロセスを中止へ | スラド
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• 世界初、最先端７nmプロセスを用いた半導体チップを搭載した マイニングマシン「GMOマイナー B2」を販売開始 – GMOインターネット株式会社
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• 10nmプロセスで製造されるCore i3、限定投入へ | スラド ハードウェア
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• Intelの10nmプロセスの本格生産は2019年にずれ込む | スラド
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• JVN#00719891: CG-WLR300NM における複数の脆弱性
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• CG-WLR300NMにおける複数の脆弱性について | コレガ
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• Samsung、7nmプロセスに向けたEUVリソグラフィ技術を開発 | スラド
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• IBM News room – 2017-06-05 IBM Research Alliance Builds New Transistor for 5nm Technology – United States
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• IBMら、5nmプロセスルールの微小トランジスタを開発 | スラド
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• 15nmプロセスMLCのNAND型フラッシュメモリを搭載したエンタープライズ向けSSDの製品化について | 東芝 セミコンダクター＆ストレージ社
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• ドコモからのお知らせ : 「F2611」 「M1000」 「NM850iG」をご愛用のお客様へのお知らせ | お知らせ | NTTドコモ
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• FOMA F2611/M1000/NM850iG、来年12月1日よりすべての通話・通信が利用不可能に | スラッシュドット・ジャパン モバイル
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• 台湾TSMC、2015年後半にも「16nm FinFET」プロセスの大量生産を開始へ | GGSOKU – ガジェット速報
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• 北大、650～850nmの可視・近赤外光も利用可能な人工光合成システムを開発 | スラッシュドット・ジャパン ハードウェア
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